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반도체 포토레지스트(PR) 소재 전문기업 삼양엔씨켐이 극자외선(EUV) 포토레지스트(PR)
반도체 펠리클 기업 에프에스티(FST)가 개발 중인 극자외선(EUV) 펠리클의 가시적 성과
[더구루=정예린 기자] 중국 칭화대학교 연구팀이 초미세 반도체 제조의 핵심 소재인 극자외선(EUV) 포토레지스트를 독자 개발했다. 중국이 EUV 공정용 소재 기술을 자체 확보한 것
중국 칭화대학교가 차세대 첨단 반도체 공정의 핵심 소재인 euv(극자외선) 포토레지스트를 자체 개발하면서 반도체 산업의 '병목 지점'으로 여겨졌던 소재 분야에서 실질적인 돌파구가
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From the US trying to outmanoeuvre Beijing with tr
미국이 첨단 반도체 제조에 필수인 극자와선(EUV) 노광장비 연구시설을 마련했다. 미국 소
미국이 첨단 반도체 제조에 필수인 극자와선(EUV) 노광장비 연구시설을 마련했다. 미국 소
본격 양산까지는 과제 산적… “품질 안정화, 자금 조달 필수” 일본이 반도체 산업 부활을
인하대 고분자공학과 이진균 교수 연구팀이 삼성전자 반도체(DS) 부문과의 공동 연구로 하이(High)-NA 극자외선(EUV)용 포토레지스트를 개발했다고 18일 밝혔다. 이 교수 연
D램 업계가 HBM(고대역폭메모리)용 차세대 접합 기술로 고려하고 있는 하이브리드 본딩이 제조사별로 도입시기가 엇갈릴 전망된다. HBM 높이 축소와 열방출 측면에서 기존 방식 대비

[출처] https://stockinfo7.com/news/search



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