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삼양엔씨켐, EUV PR 소재 개발…삼성전자 공급 동진세미켐향 비중 50%
이투데이 | 2025-07-30 14:29

반도체 포토레지스트(PR) 소재 전문기업 삼양엔씨켐이 극자외선(EUV) 포토레지스트(PR)
에프에스티, EUV 펠리클 개발 성과 가시화…차세대 성장 동력 주목
이투데이 | 2025-07-29 09:37

반도체 펠리클 기업 에프에스티(FST)가 개발 중인 극자외선(EUV) 펠리클의 가시적 성과
中 반도체 자립 '가속'...칭화대, EUV 포토레지스트 독자 개발
더구루 | 2025-07-25 14:44

[더구루=정예린 기자] 중국 칭화대학교 연구팀이 초미세 반도체 제조의 핵심 소재인 극자외선(EUV) 포토레지스트를 독자 개발했다. 중국이 EUV 공정용 소재 기술을 자체 확보한 것
中 칭화대, 첨단 반도체 자립 '한계점' 넘는 성과 달성
조세일보 | 2025-07-25 11:36

중국 칭화대학교가 차세대 첨단 반도체 공정의 핵심 소재인 euv(극자외선) 포토레지스트를 자체 개발하면서 반도체 산업의 '병목 지점'으로 여겨졌던 소재 분야에서 실질적인 돌파구가
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미국의 '반중국 무역 계획', 중국의 과잉 공급 문제: SCMP 일일 헤드라인
SCMP | 2025-07-24 21:47

From the US trying to outmanoeuvre Beijing with tr
'美 EUV 연구소' 개소…“미국, 첨단 반도체 개발 주도권 쥔다”
전자신문 | 2025-07-21 06:13

미국이 첨단 반도체 제조에 필수인 극자와선(EUV) 노광장비 연구시설을 마련했다. 미국 소
'美 EUV 연구소' 개소…“미국, 첨단 반도체 개발 주도권 쥔다”
전자신문 | 2025-07-21 06:01

미국이 첨단 반도체 제조에 필수인 극자와선(EUV) 노광장비 연구시설을 마련했다. 미국 소
日 라피더스, 2나노 시제품 제작… ‘EUV 적용’ 시범 라인 가동 3개월만
조선비즈 | 2025-07-20 15:32

본격 양산까지는 과제 산적… “품질 안정화, 자금 조달 필수” 일본이 반도체 산업 부활을
인하대, 삼성전자와 하이-NA EUV용 포토레지스트 공동 개발
서울경제 | 2025-07-18 13:53

인하대 고분자공학과 이진균 교수 연구팀이 삼성전자 반도체(DS) 부문과의 공동 연구로 하이(High)-NA 극자외선(EUV)용 포토레지스트를 개발했다고 18일 밝혔다. 이 교수 연
"EUV 처럼 하이브리드 본딩도" D램 제조사별 도입 시기 엇갈릴 전망 (시간주의)
KIPOST | 2025-07-17 15:38

D램 업계가 HBM(고대역폭메모리)용 차세대 접합 기술로 고려하고 있는 하이브리드 본딩이 제조사별로 도입시기가 엇갈릴 전망된다. HBM 높이 축소와 열방출 측면에서 기존 방식 대비
[출처] https://stockinfo7.com/news/search
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