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삼성중공업, 노르웨이 노이버 마리타임과 20년 협력 재확인…미래 동행 강화
더구루 | 2025-09-14 08:00
[더구루=김예지 기자] 삼성중공업과 노르웨이 해양기술 기업 노이버 마리타임(Neuver Maritime)이 오랜 파트너십을 바탕으로 신뢰를 다시 확인했다. 양사는 해양 산업 현장에
TSMC 'EUV 펠리클' 기술 개발 본격화, ASML 하이NA 장비 도입 늦추나
비즈니스포스트 | 2025-09-10 09:37
TSMC가 극자외선(EUV) 노광 공정에 쓰이는 펠리클 기술을 자체 개발해 상용화하는 데 속도를 내고 있다. 네덜란드 ASML에 의존을 낮추려는 목적이다.이는 고가의 '하이NA'
아드반테스트, 차세대 마스크용 CD-SEM E3660 출시
전자신문 | 2025-09-09 10:22
반도체 테스트 장비 글로벌 선도 기업 아드반테스트는 포토마스크 및 극자외선 노광장비(EUV
[단독] "결국 우리 것 쓸 것"…中반도체 자립 HBM·EUV만 남았다
중앙일보 | 2025-09-09 05:00
" “고대역폭메모리(HBM) 임시 본딩의 난제는 이물질 제거입니다. 일부 재료 데이터는 여
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자이스, 하반기 EUV 포토마스크 검사 장비 韓 양산 적용
전자신문 | 2025-09-08 17:21
자이스는 올해 하반기 국내 반도체 제조사에서 극자외선(EUV) 포토마스크 검사장비 '에임즈
[반도체]자이스 'AIMS EUV 3.0', 올해 하반기 국내 양산 적용
THEELEC | 2025-09-08 16:52
자이스 ‘AIMS EUV 3.0’, 향상된 마스크 처리 속도로 시장 경쟁력 강화
테크월드 | 2025-09-08 15:24
[테크월드뉴스=박규찬 기자] 자이스가 ‘AIMS EUV 3.0’을 통해 향상된 마스크 처리 속도로 시장 경쟁력을 강화한다고 8일 밝혔다.ZEISS AIMS는 포토마스크의 인쇄 성능
자이스, 하반기 최신 'EUV 포토마스크' 검사 장비 국내 양산 적용
지디넷코리아 | 2025-09-08 11:28
자이스(ZEISS)는 반도체 미세화에 필수적인 자사 포토마스크 검사 장비 'AIMS EUV
[칩톡]파운드리 전유물서 D램으로…'하이 NA EUV' 초미세 공정 경쟁 불붙었다
아시아경제 | 2025-09-08 07:33
[칩톡]파운드리 전유물서 D램으로…'하이 NA EUV' 초미세 공정 경쟁 불붙었다
발레리 돈젤리, 각본상 수상
국제뉴스 | 2025-09-07 13:52
(이탈리아=국제뉴스) 신도현 기자 = 프랑스 감독 발레리 돈젤리가 6일(현지시간) 베니스 리도에서 열린 제82회 베니스 영화제 시상식에서 영화 "A Pied d'Oeuvre"(At
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