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반도체 2나노 주도권 놓고 한·일전 불붙었다

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한국경제 | 2025-11-16 18:41

반도체용 초박막 필름인 ‘극자외선(EUV) 펠리클’이 반도체산업의 새 격전지로 떠오르고 있

TSMC, 1.4나노 공정에 High-NA EUV 도입 포기… 대신 ‘펠리클’ 기술 업그레이드 (시간주의)

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KIPOST | 2025-10-24 14:03

TSMC가 1.4nm(나노미터) ‘A14’와 1나노 ‘A10’ 공정에서 High-NA(고개구율) EUV(극자외선) 리소그래피(노광) 장비를 사용하지 않기로 했다.대만 공상시보(工商

TSMC, 1.4nm·1nm 첨단 공정에 '포토마스크 펠리클' 도입 추진

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더구루 | 2025-10-23 15:46

[더구루=정예린 기자] TSMC가 1나노미터(nm)급 초미세 공정에서 ASML의 차세대 극자외선(EUV) 노광 장비를 투입하는 대신 EUV 공정의 효율을 극대화하는 전략을 택했다.

[반도체][차이나 브리프] TSMC, 구형팹 활용해 EUV 펠리클 개발

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THEELEC | 2025-10-22 09:46

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에스앤에스텍, 용인 EUV 전용센터 준공…블랭크마스크·펠리클 안정적 생산

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서울경제 | 2025-10-16 05:01